Laser Mikrobearbeitung: Laser-Strukturieren, Laser-Ritzen, Laser-Mikro-Bohren
Laser-Bearbeitung von Keramik, Silizium-Wafer, Solarzellen, Dünnfilm-Solarzellen
Laser für Solar-Technik, Photovoltaik, Elektronik
Laser-Waferbeschriften, Wafer-Markieren, Wafer-Sortieren, Wafer-Inspektion
Laser-Strahlquellen, Wissenschaftliche Laser: 1064 nm, 693 nm, 532 nm, 355 nm, 266 nm, 213 nm UV-Laser
CO2-Laser, Nd:YAG-Laser, Rubinlaser, Vanadat-Laser, Farbstofflaser, Dye-Laser
für Holographie,
Spektroskopie, PIV, LIF
 
         
         
 
 
 
         
         
  D-82152 Krailling Justus-von-Liebig-Ring 8
+49(89)899360-0 info@innolas.com
(c) InnoLas GmbH 2001-2006
 
         
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  Innolas entwickelt und vertreibt innovative Lasersysteme für Industrie, Forschung und Wissenschaft:  
   
 

Laser-Mikro-Materialbearbeitung in der Photovoltaik,
Solarzellen-Produktion und Elektronik-Produktion

 
  Mit Bearbeitungsverfahren wie dem Laser-Strukturieren, Laser-Ritzen oder Laser-Mikro-Bohren unterstützen die Innolas Maschinen die effektive Fertigung vor allem in der Solarzellen-Produktion und Elektronik-Produktion
Durch die Wahl geeigneter Laserquellen sind die Systeme optimiert für die Bearbeitung unterschiedlicher Materialien
wie Keramik, Aluminium-Oxyd-Substrat, Metall, Solarzellen, Dünnfilm-Solarzellen
 
   
 

Laseranlagen und Systeme für die Wafer-Bearbeitung

 
  InnoLas ist ein in Europa marktführender Hersteller von Laseranlagen zum Wafer-Markieren, Wafer-Beschriften sowie von Maschinen zum Wafer-Sortieren und zur Wafer-Inspektion. Optimierte Effizienz und höchste Verfügbarkeit sind charakteristische Merkmale aller entwickelten Anlagen zur Beschriftung und zum Handling von Silizium-Wafer und Wafer anderer Materialien  
   
 

Wissenschaftliche Laser

 
  Als Partner von Forschung und Wissenschaft entwickelt Innolas Lasersysteme und nimmt sie vor Ort in Betrieb.
Die Palette umfasst gängigen Lasertypen wie CO2-Laser, Nd:YAG-Laser, Rubinlaser, Vanadat-Laser, durchstimmbare Laser, diodengepumpte Laser, Farbstofflaser, Dye-Laser, Pico-Sekunden-Systeme. Die Laserquellen liefern typische Wellenlängen
wie 1064 nm, 693 nm, 532 nm, 355 nm, 266 nm und UV-Laserlicht. Einsatzgebiete sind Holographie, Spektroskopie, Particle Image Velocimetry (PIV), Laser induzierte Fluoreszenz (LIF), OPO-Laser